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特許・商標・著作権 の専門家が生活やビジネスに役立つコラムを発信 (14ページ目)

特許・商標・著作権 に関する コラム 一覧

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中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第5回)

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 (第5回) ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人)  河野特許事務所 2010年11月12日 執筆者:弁理士  河野 英仁 5.結論  最高人民法院は、北京市高級人民法院がなした...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/11/12 14:00

セミナー 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー

セミナーのご案内 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時    2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場    (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催       東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合セン...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/11/10 14:00

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第4回)

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ (第4回) 上海麗雨光電有限公司 上訴人-原審被告 v. 鶴山麗得電子実業有限公司 被上訴人-原審原告 河野特許事務所 2010年11月9日 執筆者:弁理士  河野 英仁   争点2:イ号方法は、技術特徴「ヒンジ部材(11)外形にほぼ一致する区域を切断し」と同一または均等では...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/11/09 14:00

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第3回)

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第3回)  ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~  OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人) 河野特許事務所 2010年11月5日 執筆者:弁理士  河野 英仁    (4)北京市高級人民法院の判断  北京市高級...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/11/05 14:00

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第2回)

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第2回) 中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 (第2回) ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人)  河野特許事務所 2010年11月2日 執筆者:弁理士  河野 英仁    参考図3は眼鏡のつる部分を示す説明図*4である...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/11/02 14:00

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第1回)

中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第1回) 中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 (第1回) ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人)  河野特許事務所 2010年10月29日 執筆者:弁理士  河野 英仁 1.概要  中国における発明のカテゴリーは装置発明と方...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/29 14:00

セミナー 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー

セミナーのご案内 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時    2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場    (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催       東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合セン...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/27 14:00

セミナー(権利を獲得/保護するための)中国特許ノウハウ

セミナーのご案内 <中国企業に立ち向かい、権利を獲得/保護するための>中国特許ノウハウ ~具体的な特許調査/検索ノウハウ・実用新案の現状・中国特許出願・訴訟戦略~ 日 時    2010年12月7日(火) 12:30-16:30 会 場    [東京・蒲田]大田区産業プラザ6階C会議室 講 師   河野特許事務所  弁理士 河野 英仁 セミナーポイント: 「損害賠償として6億5千万円支...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/27 14:00

米国仮出願の拡大先願の地位(第6回)

米国仮出願の拡大先願の地位(第6回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al.  河野特許事務所 2010年10月26日 執筆者:弁理士  河野 英仁 *6 米国特許法第119条(a)の規定は以下のとおり。 第119 条 先の出願日の利益;優先権 (a) 合衆国において提出された出願の場合に若しくは合衆国の国民に対して同等の特権を与える外国におい...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/26 14:00

米国特許法が改正されました

9月16日にオバマ大統領が米国改正特許法(Leahy-Smith America Invents Act)に署名を行い、長年にわたって議論されてきた米国特許法が遂に改正されました。最大の改正点は"first to invent"システムから"first inventor to file"システムへの移行ですが、その他にも多くの重要な改正が含まれています。主な改正点についてはこちらをご覧下さい。今回...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/22 14:42

米国仮出願の拡大先願の地位(第5回)

米国仮出願の拡大先願の地位(第5回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al.  河野特許事務所 2010年10月22日 執筆者:弁理士  河野 英仁 (4) 非自明性判断  さらに、米国においては非自明性判断時に拡大先願地位を有する先願が一定条件下で利用される点に注意すべきである。すなわち、米国特許法第103条(c)*11の規定により、102条...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/22 14:00

アジア地域(中国・東南アジア)特許等出願セミナー

セミナーのご案内 アジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時    2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場    (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催       東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合センター) 講...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/21 10:00

米国仮出願の拡大先願の地位(第4回)

米国仮出願の拡大先願の地位 (第4回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al.,  河野特許事務所 2010年10月19日 執筆者:弁理士  河野 英仁 5.結論 CAFCは、Tran仮出願日が後願排除効発生日であり、新規性なしと判断した審判部の決定を支持する判決をなした。 6.コメント  米国特許法第112条(e)の後願排除効発生日は原出...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/19 14:00

セミナー 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー

セミナーのご案内 アジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時    2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場    (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催       東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合センター) 講...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/16 10:13

[アメリカ特許制度] (5) 出願書類

アメリカへの特許出願書類を作成するときに注意すべき点について説明します。   用紙 (37CFR1.52(a)(1)(2)) ・A4またはレターサイズ ・用紙の余白は上2.0cm以上、左2.5cm以上、右2.0cm以上、下2.0cm以上とする。 ・行間は1.5行または2行とする。 ・nonscript typeのフォント(Arial, Times Roman, Courierなど)を使用する...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/15 14:38

[アメリカ特許制度] (13) 維持年金

支払期限と料金 以下のページを参照 http://www.aperio-ip.com/c/patentsystems/us/13   支払可能な時期 ・上記支払期間経過後6ヶ月間       surcharge(37CFR1.20(h))の支払により追納できる。 ・上記支払期間+6ヶ月経過後   ・上記支払期間+6ヶ月~24ヶ月(支払期限から30ヶ月以内)であり、未納がunintent...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/15 14:38

米国仮出願の拡大先願の地位(第3回)

米国仮出願の拡大先願の地位(第3回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al.,  河野特許事務所 2010年10月15日 執筆者:弁理士  河野 英仁 4.CAFCの判断 後願排除効発生日は仮出願日である。  CAFCは特許法の解釈、及び、最先の発明者にのみ特許を付与するという特許制度の趣旨に鑑み、後願排除効発生日は仮出願日であると判示した。 ...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/15 14:00

[アメリカ特許制度] (12) 再発行出願

再発行出願(Reissue Application)は、特許に含まれるerrorの訂正を特許の発行後に求めるための出願である (35USC251, MPEP1411)。 要件 出願できる者 発明者のみが出願できる(発明者が死亡している場合やサインを拒否した場合は除く (37CFR1.42、37CFR1.43、37CFR1.47)) 出願可能時期 特許発行後いつでも可能(ただし、クレー...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/13 21:07

米国仮出願の拡大先願の地位(第2回)

米国仮出願の拡大先願の地位(第2回) 米国仮出願の拡大先願の地位 (第2回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al.,  河野特許事務所 2010年10月12日 執筆者:弁理士  河野 英仁 (2)出願経過  図1は出願経過を示す説明図である。737出願は2000年11月29日にUSPTOへ特許出願された。審査官は、737出願の先行技術として7,039,683特許(以下、Tran特...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/12 14:00

[アメリカ特許制度] (11) 特許期間

特許期間 出願日から20年で満了(1995年6月8日以降の出願)(35USC154(a)(2)) (1995年6月8日以前の出願は特許発行日から17年) ・国際出願:国際出願日 ・仮出願:仮出願日ではなく、通常の出願日 ・パリ優先権主張出願:優先日ではなく、実際の出願日(35USC154(a)(3)) ・継続出願・分割出願:親の出願日(親の出願日が1995年6月8日以前であっても親の出願日から...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/08 14:44

米国仮出願の拡大先願の地位(第1回)

米国仮出願の拡大先願の地位 (第1回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al.,  河野特許事務所 2010年10月8日 執筆者:弁理士  河野 英仁 1.概 要  米国特許法第102条(e)*1は、日本の拡大先願の地位(日本国特許法第29条の2)に類する規定であり、以下のとおり規定している。 次の各項の1に該当するときを除き,人は特許を受け...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/08 14:00

[アメリカ特許制度] (10) 情報開示陳述書(IDS)

Information Disclosure Statement (IDS)の制度の下、米国特許出願の手続に関わる者は出願係属中は自己の知っている先行技術文献をUSPTOに提出する必要がある。(37CFR1.56,37CFR1.97,37CFR1.98,MPEP609)   対象となる出願 ・通常の出願に加え、reissue出願、植物特許出願、意匠出願、reexaminationもIDS提出...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/07 11:45

[アメリカ特許制度] (9) 継続審査請求(RCE)

継続審査請求(Request for continued examination (RCE))は、審査手続の終了後に審査を継続するために行う手続である(37CFR1.114)。   対象とならない出願   ・仮出願   ・Design Patent   ・Reexamination   ・1995年6月8日より前の出願   手続可能時期   ・審査手続がcloseした後、下記のうち最も...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/06 11:52

商標の基礎知識2(商標権の仕組み)

指定商品・役務 商標は商品や役務(サービス)を提供する人と需要者の間のコミュニケーションツールです。 すなわち、「この商品を買ってください」という提供者(企業)と 「あの商品がほしい」という「需要者が「商標」によって結ばれ 売りたい商品が売れ、星商品を買うことができるという環境を作るものです。   このコミュニケーションがうまくいくために「商標法」「商標登録」という制度があるのです。 ...(続きを読む

峯 唯夫
峯 唯夫
(弁理士)
公開日時:2010/10/06 00:59

商標の基礎知識1(商標って何)

1.商標ってなんなんでしょう。 とりあえず、イメージしてください。 (1)企業の立場として     商品に名前がなかったら。どうやって、自社の商品を買ってもらうか。     例えば、「自動車」 名前(商標)がなかったら、どぷやって宣伝しますか?                   広告では、必ず「会社名・販売店名」と「車の名称」が表示されます。          「会社名」の告知によって「...(続きを読む

峯 唯夫
峯 唯夫
(弁理士)
公開日時:2010/10/05 23:40

商標は怖い

新しく事業を立ち上げようとしている方々、 皆さん「特許」に興味がありますね。 特許を取得して事業を成功させたいという気持ちがある。 しかし、「商標」は二の次になっている方が多い。   事業活動に「商標」(名前)は不可欠です。 モノを売りたい、というとき、必ず「名前」をつけますね。 それが「商標」です。   ここからが問題です。 名前を付けるとき、調査をしますか? 商標は、指定...(続きを読む

峯 唯夫
峯 唯夫
(弁理士)
公開日時:2010/10/05 23:14

その複製は著作権の侵害?

その複製は著作権の侵害? ~著作権法改正によるデジタルコンテンツの流通促進~  河野特許事務所 2010年10月5日 執筆者:弁理士  大竹 康友  我が国ではインターネットを利用した事業の拡大が諸外国に比較して遅れており、その一方で違法配信からの複製が蔓延していることから、著作権を巡る環境を早急に整備する必要性が叫ばれていました。これらを受けて著作権法の一部が改正され、2010年1月1日か...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/05 14:00

[アメリカ特許制度] (8) 一部継続出願(CIP)

一部継続出願(continuation-in-part application (CIP))は、親出願の内容に新規事項を追加した出願である (35USC120)。   要件   ・親出願の特許発行、放棄、手続終了の前に出願すること   ・親出願の発明者の少なくとも1人を共通の発明者として出願すること   ・親出願に関する参照があること   ・親出願が明細書の記載要件を満たしていること (37...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/05 10:23

セミナー(権利を獲得/保護するための)中国特許ノウハウ

セミナーのご案内 <中国企業に立ち向かい、権利を獲得/保護するための>中国特許ノウハウ ~具体的な特許調査/検索ノウハウ・実用新案の現状・中国特許出願・訴訟戦略~ 日 時    2010年12月7日(火) 12:30-16:30 会 場    [東京・蒲田]大田区産業プラザ6階C会議室 講 師   河野特許事務所  弁理士 河野 英仁 セミナーポイント: 「損害賠償として6億5千万円支...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/04 14:00

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第7回)

不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第7回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年10月1日 執筆者:弁理士  河野 英...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/01 14:00

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第6回)

不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第6回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月28日 執筆者:弁理士  河野 英仁...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/28 14:00

[アメリカ特許制度] (7) 出願手数料

計算方法 米国出願の出願手数料は以下の合計金額になる。[2009年7月1日時点]  ・Basic Filing Fee : $330  ・Search Fee : $ 540  ・Examination Fee : $220  ・(独立クレーム数 - 3) × $220  ・(クレーム数 - 20) × $52  ・多数従属クレーム(multiple dependent claim)がある場合...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/09/24 16:30

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第5回)

不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第5回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月24日 執筆者:弁理士  河野 英仁...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/24 14:00

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第4回)

不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~ (第4回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月21日 執筆者:弁理士  河野 英仁...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/21 14:00

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第3回)

不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第3回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月17日 執筆者:弁理士  河野 英仁...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/17 14:00

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第2回)

不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第2回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月14日 執筆者:弁理士  河野 英仁...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/14 14:00

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第1回)

不正行為に基づく抗弁の成立要件(第1回) 不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~ (第1回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant.  河野特許事務所 2010年9月10日 執筆者:弁理士  河野...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/10 14:00

USPTO内部インストラクション発表される(第8回)

Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第8回)     河野特許事務所 2010年9月7日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  内部インストラクションはUSPTOのホームページから閲覧することができる [PDFファイル]。 http://www.uspto.gov/p...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/07 14:00

USPTO内部インストラクション発表される〜(第7回)

Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第7回)     河野特許事務所 2010年9月3日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  4.コメント  今回発表された内部インストラクションはあくまで方法クレームに対して適用されるものであり、装置クレーム・記録媒体クレームに対して...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/09/03 14:00

USPTO内部インストラクション発表される(第6回)

Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第6回)     河野特許事務所 2010年8月30日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  3.特許適格性の判断 (1)審査官の対応 審査官は以上述べた各判断要素を用いて (i)方法が「一般的概念」・「概念の組み合わせ」をカバー...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/30 14:00

USPTO内部インストラクション発表される(第5回)

Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第5回)     河野特許事務所 2010年8月27日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  D.一般的な「概念(concept)」(原則、理論、計画またはスキーム等)が、方法の各ステップを実行する際に含まれているか否かを考慮する。  ...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/27 14:00

USPTO内部インストラクション発表される(第4回)

Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第4回)     河野特許事務所 2010年8月24日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  C.特別な機械・装置または変換が存在しない場合において、クレームされた方法のパフォーマンスが、自然法則の適用を伴うか否か? 自然法則の適用を伴...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/24 14:00

USPTO内部インストラクション発表される(第3回)

Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第3回)     河野特許事務所 2010年8月20日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  B.クレームされた方法の実行により、特定の物(article)に対する変換がもたらされるか、または生じるか否か? 変換を生じる場合、抽象的な...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/20 14:00

USPTO内部インストラクション発表される(第2回)

Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第2回)     河野特許事務所 2010年8月17日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  2.方法クレームが抽象的アイデアか否かを決定する際に考慮すべき判断要素  以下に述べるA~Dの判断要素について方法クレーム全体として判断する。...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/17 14:00

USPTO内部インストラクション発表される(第1回)

USPTO内部インストラクション発表される(第1回) Bilski最高裁判決を受けたUSPTO内部インストラクション発表される        〜方法クレームに対する保護適格性判断〜(第1回)     河野特許事務所 2010年8月13日 執筆者:弁理士  河野 英仁                  1.概要  米国特許商標庁(USPTO)はBilski最高裁判決*1を受け、2010年7月27日、方法クレームに対する保護適格性の判断基準を発...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/13 14:00

営業秘密の取り扱いにご注意(第2回)

営業秘密の取り扱いにご注意(第2回)    〜不競法改正により刑事罰の対象が拡大〜     河野特許事務所 2010年8月10日 執筆者:弁理士  大堀 民夫                (2)改正による対象行為の具体例 改正ポイントに対応して、以下の行為にも営業秘密侵害罪の適用が可能となります。 (a)不正の利益を得るため外国政府等に営業秘密を開示する行為や保有者を害するため営業秘密をイン...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/10 14:00

営業秘密の取り扱いにご注意(第1回)

営業秘密の取り扱いにご注意(第1回)    〜不競法改正により刑事罰の対象が拡大〜     河野特許事務所 2010年8月6日 執筆者:弁理士  大堀 民夫                営業秘密とは企業等において秘密に管理され、公知になっていない、有用な情報(具体的には、無形の技術・ノウハウ等)です。2003年、営業秘密の刑事罰による保護強化のため不正競争防止法に営業秘密侵害罪が創設され、そ...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/06 14:00

特許権者の製品=権利範囲内に属するもの?

特許権者の製品=権利範囲内に属するもの?    〜実施契約前に検討しよう!〜     河野特許事務所 2010年7月10日 執筆者:弁理士  新井 景親                1.はじめに  特許権の範囲(技術的範囲)は、特許請求の範囲の記載に基づいて定められますが(特許法第70条)、特許請求の範囲の記載は、お世辞にも読み易いとは言えず、理解に時間を要します。そのため実施契約を締結す...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/04 15:55

中国における均等論の解釈(第7回)

中国における均等論の解釈 ~均等論と従来技術の記載~ (第7回) 上海麗雨光電有限公司 上訴人-原審被告 v. 鶴山麗得電子実業有限公司 被上訴人-原審原告 河野特許事務所 2010年8月4日 執筆者:弁理士  河野 英仁 6.コメント  中国における均等侵害成立には、手段・機能・効果と、容易想到との4要件が必要とされる。本事件は具体的にどのような場合にこれらの条件を満たすか...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/04 10:00

中国における均等論の解釈(第6回)

中国における均等論の解釈 ~均等論と従来技術の記載~ (第6回) 上海麗雨光電有限公司 上訴人-原審被告 v. 鶴山麗得電子実業有限公司 被上訴人-原審原告  河野特許事務所 2010年8月3日 執筆者:弁理士  河野 英仁  すなわち、イ号製品が請求項に記載された技術的特徴と実質的に同一の手段・機能・効果を有し、かつ、当該技術的特徴からイ号製品に容易に想到できる場合に均等と判断される。こ...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/08/03 10:00

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