「特許」を含むコラム・事例
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セミナー(権利を獲得/保護するための)中国特許ノウハウ
セミナーのご案内 <中国企業に立ち向かい、権利を獲得/保護するための>中国特許ノウハウ ~具体的な特許調査/検索ノウハウ・実用新案の現状・中国特許出願・訴訟戦略~ 日 時 2010年12月7日(火) 12:30-16:30 会 場 [東京・蒲田]大田区産業プラザ6階C会議室 講 師 河野特許事務所 弁理士 河野 英仁 セミナーポイント: 「損害賠償として6億5千万円支...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
出願済書類の取り扱いに注意を
出願済書類の取り扱いに注意を 〜「極秘」の記載だけで大丈夫か〜 河野特許事務所 2010年11月16日 執筆者:弁理士 野口 富弘 特許出願した発明に関する技術内容を協業関係にある業者に指示して発明を実施するケースがあります。技術内容を正確に伝えるために出願済書類が用いられることもあります。このような場合に、出願済書類(先願)の取り扱いに不備があ...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
Q&Aコミュニティ『保険比較ライフィの保険相談室』を開設
日本初、最大級のQ&Aサイト「OKWave」を運営する株式会社オウケイウェイヴ(本社:東京都渋谷区、代表取締役社長:兼元謙任)と株式会社ライフィ(本社:東京都港区、代表取締役社長:澤田勉、以下ライフィ)は、ライフィが運営する保険比較サイト「保険比較ライフィ」と連携した Q&Aコミュニティ『保険比較ライフィの保険相談室』( http://lify.jp/hokensoudan/ )を2010年11月...(続きを読む)
- 澤田 勉
- (保険アドバイザー)
第2回セミナー「作り手の知っておきたい著作権・意匠権」を開催
今回初めてアーティストや手作り作家さん対象とした著作権や意匠権に関するセミナーおよび弊社でスタートしました「はあとふる.アート」の説明会をご案内致しました。 東京ばかりか地方の方までご好評で、此の度第2回目を開催致します。今回はお仕事される方々対象にした夜の部です。奮ってご参加下さい。 詳細は以下のとおりです。 内容: 「知っておきたい著作権・意匠権」&「権利の保護や活用の仕方」 ・日時:2...(続きを読む)
- 重松 まみ
- (営業コンサルタント)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第5回)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 (第5回) ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人) 河野特許事務所 2010年11月12日 執筆者:弁理士 河野 英仁 5.結論 最高人民法院は、北京市高級人民法院がなした...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
新刊「発明者をプロデュース」(書籍)と「発売記念講演会」
≪新刊のお知らせ&発売記念講演会/H22年11月30日までキャンペーン中≫ 『子供の発明 親の教育 発明者をプロデュース ~あなたのお子さんが世界を変える~』 ■2010年10月発売(定価1500円)アチーブメント出版 ■著者:弁理士 岩永勇二 (発売を記念して11月30日までキャンペーン中です) ⇒https://www.pshonin.com/f/index.asp?i=25601151...(続きを読む)
- 四倉 勝治
- (ブランドコンサルタント)
セミナー 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー
セミナーのご案内 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時 2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場 (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催 東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合セン...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第4回)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ (第4回) 上海麗雨光電有限公司 上訴人-原審被告 v. 鶴山麗得電子実業有限公司 被上訴人-原審原告 河野特許事務所 2010年11月9日 執筆者:弁理士 河野 英仁 争点2:イ号方法は、技術特徴「ヒンジ部材(11)外形にほぼ一致する区域を切断し」と同一または均等では...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第3回)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第3回) ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人) 河野特許事務所 2010年11月5日 執筆者:弁理士 河野 英仁 (4)北京市高級人民法院の判断 北京市高級...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
第1回セミナー「作り手の知っておきたい著作権・意匠権」!
この度アーティストや手作り作家さん対象とした著作権や意匠権に関するセミナーを開催します。 併せて、弊社でスタートしました「はあとふる.アート」の説明会も致します。奮ってご参加下さい。 詳細は以下のとおりです。 内容: 「知っておきたい著作権・意匠権」&「権利の保護や活用の仕方」 ・日時:2010年11月12日(金) 第1回目 14時~16時:会議室3号室:残5名まで。 第2回目 18...(続きを読む)
- 重松 まみ
- (営業コンサルタント)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第2回)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 (第2回) ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人) 河野特許事務所 2010年11月2日 執筆者:弁理士 河野 英仁 参考図3は眼鏡のつる部分を示す説明図*4である...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
新聞の一面報道_2010.10.19
坦がん犬に朗報! イペットが新聞の一面で報道されました! イペットとは、弊社で製造販売している動物用健康補助食品の事です。 特許を所得しており、原材料には「タヒボエキス」を使用しています。「タヒボ」の原料は、南米アマゾン川流域に生息する樹木です。 「タヒボエキス」は、この樹木の外皮と木質部に挟まれたわずか7mmほどの内部樹皮だけを使った100%天然の原料からできており、いかなる...(続きを読む)
- 大川 博
- (経営コンサルタント)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈(第1回)
中国特許判例紹介:中国における方法発明の解釈 (第1回) ~方法クレームの権利範囲は記載した各ステップの順序に限定されるか~ OBE工業有限公司(ドイツ) 再審申請人(一審原告、二審被上訴人) v. 浙江康華眼鏡有限公司(中国) 被再審申請人(一審被告、二審上訴人) 河野特許事務所 2010年10月29日 執筆者:弁理士 河野 英仁 1.概要 中国における発明のカテゴリーは装置発明と方...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
セミナー(権利を獲得/保護するための)中国特許ノウハウ
セミナーのご案内 <中国企業に立ち向かい、権利を獲得/保護するための>中国特許ノウハウ ~具体的な特許調査/検索ノウハウ・実用新案の現状・中国特許出願・訴訟戦略~ 日 時 2010年12月7日(火) 12:30-16:30 会 場 [東京・蒲田]大田区産業プラザ6階C会議室 講 師 河野特許事務所 弁理士 河野 英仁 セミナーポイント: 「損害賠償として6億5千万円支...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
セミナー 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー
セミナーのご案内 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時 2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場 (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催 東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合セン...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
米国仮出願の拡大先願の地位(第6回)
米国仮出願の拡大先願の地位(第6回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al. 河野特許事務所 2010年10月26日 執筆者:弁理士 河野 英仁 *6 米国特許法第119条(a)の規定は以下のとおり。 第119 条 先の出願日の利益;優先権 (a) 合衆国において提出された出願の場合に若しくは合衆国の国民に対して同等の特権を与える外国におい...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
薬事法・景品表示法 広告表現 戦略ガイド販売中
著名な経営コンサルタントの岡本吏郎先生と共同で行った、 「薬事法及び景品表示法に関するセミナー」を完全収録した DVD&冊子が販売中です。 内容もかなり充実したもので、 これまでの薬事法・景品表示法に関するセミナーは、法律の 条文理解や解釈、都道府県や公正取引委員会が出す報道資料 をベースに行なう内容のものが多数を占め、具体的なビジネ スに落としにくいという悩みを抱えていました。 その悩みや...(続きを読む)
- 赤坂 卓哉
- (クリエイティブディレクター)
米国特許法が改正されました
9月16日にオバマ大統領が米国改正特許法(Leahy-Smith America Invents Act)に署名を行い、長年にわたって議論されてきた米国特許法が遂に改正されました。最大の改正点は"first to invent"システムから"first inventor to file"システムへの移行ですが、その他にも多くの重要な改正が含まれています。主な改正点についてはこちらをご覧下さい。今回...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
米国仮出願の拡大先願の地位(第5回)
米国仮出願の拡大先願の地位(第5回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al. 河野特許事務所 2010年10月22日 執筆者:弁理士 河野 英仁 (4) 非自明性判断 さらに、米国においては非自明性判断時に拡大先願地位を有する先願が一定条件下で利用される点に注意すべきである。すなわち、米国特許法第103条(c)*11の規定により、102条...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
アジア地域(中国・東南アジア)特許等出願セミナー
セミナーのご案内 アジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時 2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場 (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催 東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合センター) 講...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
米国仮出願の拡大先願の地位(第4回)
米国仮出願の拡大先願の地位 (第4回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al., 河野特許事務所 2010年10月19日 執筆者:弁理士 河野 英仁 5.結論 CAFCは、Tran仮出願日が後願排除効発生日であり、新規性なしと判断した審判部の決定を支持する判決をなした。 6.コメント 米国特許法第112条(e)の後願排除効発生日は原出...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
セミナー 中小企業向けアジア地域特許等出願セミナー
セミナーのご案内 アジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時 2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場 (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催 東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合センター) 講...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
[アメリカ特許制度] (5) 出願書類
アメリカへの特許出願書類を作成するときに注意すべき点について説明します。 用紙 (37CFR1.52(a)(1)(2)) ・A4またはレターサイズ ・用紙の余白は上2.0cm以上、左2.5cm以上、右2.0cm以上、下2.0cm以上とする。 ・行間は1.5行または2行とする。 ・nonscript typeのフォント(Arial, Times Roman, Courierなど)を使用する...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
[アメリカ特許制度] (13) 維持年金
支払期限と料金 以下のページを参照 http://www.aperio-ip.com/c/patentsystems/us/13 支払可能な時期 ・上記支払期間経過後6ヶ月間 surcharge(37CFR1.20(h))の支払により追納できる。 ・上記支払期間+6ヶ月経過後 ・上記支払期間+6ヶ月~24ヶ月(支払期限から30ヶ月以内)であり、未納がunintent...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
米国仮出願の拡大先願の地位(第3回)
米国仮出願の拡大先願の地位(第3回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al., 河野特許事務所 2010年10月15日 執筆者:弁理士 河野 英仁 4.CAFCの判断 後願排除効発生日は仮出願日である。 CAFCは特許法の解釈、及び、最先の発明者にのみ特許を付与するという特許制度の趣旨に鑑み、後願排除効発生日は仮出願日であると判示した。 ...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
[アメリカ特許制度] (12) 再発行出願
再発行出願(Reissue Application)は、特許に含まれるerrorの訂正を特許の発行後に求めるための出願である (35USC251, MPEP1411)。 要件 出願できる者 発明者のみが出願できる(発明者が死亡している場合やサインを拒否した場合は除く (37CFR1.42、37CFR1.43、37CFR1.47)) 出願可能時期 特許発行後いつでも可能(ただし、クレー...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
米国仮出願の拡大先願の地位(第2回)
米国仮出願の拡大先願の地位 (第2回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al., 河野特許事務所 2010年10月12日 執筆者:弁理士 河野 英仁 (2)出願経過 図1は出願経過を示す説明図である。737出願は2000年11月29日にUSPTOへ特許出願された。審査官は、737出願の先行技術として7,039,683特許(以下、Tran特...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
IT企業が契約を交わさない場合
前回のコラムではIT企業に必要な契約について解説しましたが、もし、IT企業が目に見えない無体物を提供する際、明確な契約を交わしていなかった場面で、後々に問題が発生すれば解決策としてどのような法律的判断基準が考えられるでしょうか。 この場合はまず、「(1)商法の規定に従う」ことになりますが、商法ではIT企業に深く関わる規定は見当たらないので、続いて「(2)IT業界の商慣習に従う」ことになります...(続きを読む)
- 服部 真和
- (行政書士)
[アメリカ特許制度] (11) 特許期間
特許期間 出願日から20年で満了(1995年6月8日以降の出願)(35USC154(a)(2)) (1995年6月8日以前の出願は特許発行日から17年) ・国際出願:国際出願日 ・仮出願:仮出願日ではなく、通常の出願日 ・パリ優先権主張出願:優先日ではなく、実際の出願日(35USC154(a)(3)) ・継続出願・分割出願:親の出願日(親の出願日が1995年6月8日以前であっても親の出願日から...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
米国仮出願の拡大先願の地位(第1回)
米国仮出願の拡大先願の地位 (第1回) ~Secret Prior Art~ In re Giacomini, et al., 河野特許事務所 2010年10月8日 執筆者:弁理士 河野 英仁 1.概 要 米国特許法第102条(e)*1は、日本の拡大先願の地位(日本国特許法第29条の2)に類する規定であり、以下のとおり規定している。 次の各項の1に該当するときを除き,人は特許を受け...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
[アメリカ特許制度] (10) 情報開示陳述書(IDS)
Information Disclosure Statement (IDS)の制度の下、米国特許出願の手続に関わる者は出願係属中は自己の知っている先行技術文献をUSPTOに提出する必要がある。(37CFR1.56,37CFR1.97,37CFR1.98,MPEP609) 対象となる出願 ・通常の出願に加え、reissue出願、植物特許出願、意匠出願、reexaminationもIDS提出...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
[アメリカ特許制度] (9) 継続審査請求(RCE)
継続審査請求(Request for continued examination (RCE))は、審査手続の終了後に審査を継続するために行う手続である(37CFR1.114)。 対象とならない出願 ・仮出願 ・Design Patent ・Reexamination ・1995年6月8日より前の出願 手続可能時期 ・審査手続がcloseした後、下記のうち最も...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
IT企業に必要な契約とは
企業が営業をしていくなかで、他の企業や一般消費者との間で「モノ」を得たり、渡したりする場面は非常に多くあります。 その中で、もっとも多いものは企業自身の意思に基づいて「モノ」を売買するか、あるいは交換するケースです。このような企業の意思によって他者との間で「モノ」の移転を発生させる方法として、広く用いられる重要なものが契約です。 そして、IT企業の場合、自社が提供する「モノ」は目に見えない...(続きを読む)
- 服部 真和
- (行政書士)
その複製は著作権の侵害?
その複製は著作権の侵害? ~著作権法改正によるデジタルコンテンツの流通促進~ 河野特許事務所 2010年10月5日 執筆者:弁理士 大竹 康友 我が国ではインターネットを利用した事業の拡大が諸外国に比較して遅れており、その一方で違法配信からの複製が蔓延していることから、著作権を巡る環境を早急に整備する必要性が叫ばれていました。これらを受けて著作権法の一部が改正され、2010年1月1日か...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
[アメリカ特許制度] (8) 一部継続出願(CIP)
一部継続出願(continuation-in-part application (CIP))は、親出願の内容に新規事項を追加した出願である (35USC120)。 要件 ・親出願の特許発行、放棄、手続終了の前に出願すること ・親出願の発明者の少なくとも1人を共通の発明者として出願すること ・親出願に関する参照があること ・親出願が明細書の記載要件を満たしていること (37...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
セミナー(権利を獲得/保護するための)中国特許ノウハウ
セミナーのご案内 <中国企業に立ち向かい、権利を獲得/保護するための>中国特許ノウハウ ~具体的な特許調査/検索ノウハウ・実用新案の現状・中国特許出願・訴訟戦略~ 日 時 2010年12月7日(火) 12:30-16:30 会 場 [東京・蒲田]大田区産業プラザ6階C会議室 講 師 河野特許事務所 弁理士 河野 英仁 セミナーポイント: 「損害賠償として6億5千万円支...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
弁理士とコミュニケーション能力
弁理士には、高いレベルの法律知識と高い技術力が必要であると、私が弁理士になる前から言われ続けてきました。 確かに必要ではあるのですが、クライアントから最近よく耳にする、弁理士に対する不満な点を聞くにつけ、なによりも大切なのはコミュニケーション能力ではないのか、と強く感じています。 形だけでなく、活用も考えて知財創出に取り組まれているクライアントであればあるほど、技術者レベルで不満が...(続きを読む)
- 福永 正也
- (弁理士)
不正行為に基づく抗弁の成立要件(第7回)
不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第7回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年10月1日 執筆者:弁理士 河野 英...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
不正行為に基づく抗弁の成立要件(第6回)
不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第6回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月28日 執筆者:弁理士 河野 英仁...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
[アメリカ特許制度] (7) 出願手数料
計算方法 米国出願の出願手数料は以下の合計金額になる。[2009年7月1日時点] ・Basic Filing Fee : $330 ・Search Fee : $ 540 ・Examination Fee : $220 ・(独立クレーム数 - 3) × $220 ・(クレーム数 - 20) × $52 ・多数従属クレーム(multiple dependent claim)がある場合...(続きを読む)
- 森 友宏
- (弁理士)
不正行為に基づく抗弁の成立要件(第5回)
不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第5回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月24日 執筆者:弁理士 河野 英仁...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
不正行為に基づく抗弁の成立要件(第4回)
不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~ (第4回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月21日 執筆者:弁理士 河野 英仁...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
不正行為に基づく抗弁の成立要件(第3回)
不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第3回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月17日 執筆者:弁理士 河野 英仁...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
不正行為に基づく抗弁の成立要件(第2回)
不正行為に基づく抗弁の成立要件 ~自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」~(第2回) Shanghai Meihao Electric Inc., Plaintiff Appellee, v. Leviton Manufacturing Company, Inc., et al., Defendant-Appellant. 河野特許事務所 2010年9月14日 執筆者:弁理士 河野 英仁...(続きを読む)
- 河野 英仁
- (弁理士)
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