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対象:特許・商標・著作権
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中国特許権侵害訴訟の傾向と分析
〜中国企業に狙われる外国企業〜(第3回)
河野特許事務所 2010年6月21日 河野 英仁
2.統計で見る中国特許出願及び中国特許民事訴訟
(1)特許出願・登録傾向
図1 は中国知識産権局に申請された特許出願数の変化を示すグラフである(4)。
図1 は実用新型及び外観設計を含まない発明特許出願の件数であるが,全体的な出願件数が年々増加している。国外からの出願件数は景気の影響を受けて若干減少傾向にあるが,中国国内企業の出願件数は急激に増加していることが理解できる。
図2 は2008 年度における中国を除く国別の出願数割合を示すグラフである。
日本からの特許出願が最も多く,次いで米国,欧州となっている。
(第4回に続く)
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