ｾﾐﾅｰ：開発現場における中国特許の調べ方、書き方、出願の勘所

2011-05-10 14:00

セミナーのご案内

NEアカデミー　特許
開発現場における中国特許の調べ方、書き方、出願の勘所
～中国で成功する特許の秘訣～

概要

技術者にとって今後、中国特許を調べて読みこなし、中国特有の制度を理解しながら出願する知識は欠かせないものとなります。

一昔前は、「中国で特許を取得しても保護されない」という声が多くありました。しかし、現状は大きく変わっています。司法による特許の保護レベルは、先進国に引けをとらない水準に達しました。その結果、出願件数と訴訟件数が激増し、2010年の出願件数は日本を抜いて米国に次ぐ世界第2位へと浮上しているのです。

中国向け特許出願実績の豊富な弁理士である河野英仁氏が、開発現場に向けた中国特許の現状や他社特許の調べ方、書き方、出願の流れなどの勘所を解説します。日本と中国との違い、目まぐるしく変わる特許システムを把握しながら、現場でパテントマップを作る方法、最低限の中国語の知識で特許概要を把握するコツなどを学びます。

日時：2011年6月14日（火）　10:00～17:00　（開場9:30予定）
会場：化学会館（東京・お茶の水）
主催：日経エレクトロニクス

セミナー詳細・お申し込みはこちらをご参照ください。
http://techon.nikkeibp.co.jp/article/SEMINAR/20110407/190934/

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