不正行為に基づく抗弁の成立要件（第７回）

不正行為に基づく抗弁の成立要件

～自社関連出願の「重要性」と「欺く意図」～（第７回）

Shanghai Meihao Electric Inc.,
Plaintiff Appellee,
v.
Leviton Manufacturing Company, Inc., et al.,
Defendant-Appellant.

河野特許事務所　２０１０年１０月１日　執筆者：弁理士 　河野　英仁

【関連事項】
【注釈】
＊１　Molins PLC v. Textron, Inc. 48 F.3d 1172, 1179-80 (Fed. Cir. 1995), FMC Corp. v. Manitowoc Co., 835 F.2d 1411, 1415 (Fed. Cir. 1987)
＊２　継続出願とは親出願の出願日の利益を受けることができる出願をいう（米国特許法第120条）。
＊３　PerSeptive Biosystems, Inc. v. Pharmacia Biotech, Inc., 225 F.3d 1315, 1321 (Fed. Cir. 2000); Digital Control, Inc. v. Charles Machine Works, 437 F.3d 1309, 1314 (Fed. Cir. 2006)
＊４　Larson Mfg. Co. v. Aluminart Prods. Ltd., 559 F.3d 1317, 1327 (Fed. Cir. 2009)
＊５　Larson Mfg. Co. v. Aluminart Prods. Ltd., 559 F.3d 1327 (Fed. Cir. 2009)
＊６　米国特許法第102条(f)
A person shall be entitled to a patent unless —
(f) he did not himself invent the subject matter sought to be patented
特許庁HP
http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm
＊７　Invitrogen Corp. v. Clontech Labs, Inc., 429 F.3d 1052, 1063 (Fed. Cir. 2005)
＊８　35 U.S.C. 101 Inventions patentable.
Whoever invents or discovers any new and useful process, machine, manufacture, or composition of matter, or any new and useful improvement thereof, may obtain a patent therefor, subject to the conditions and requirements of this title.
前掲特許庁HP
＊９　MPEP804
＊１０　Nilssen v. Osram Sylvania, Inc., 504 F.3d 1223, 1224 (Fed. Cir. 2007)
＊１１　MPEP2001.06(c)には、訴訟情報として提供すべき具体的内容として以下を挙げている。
「可能性ある先の公然使用・販売の証拠、発明者に関する質疑、先行技術、詐欺の主張、不正行為、及び、開示義務違反」
＊１２　Impax Labs., Inc. v. Aventis Pharmaceuticals, Inc., 468 F.3d 1366, 1374-75 (Fed. Cir. 2006); Cargill, Inc. v. Canbra Foods, Ltd., 476 F.3d 1359, 1364 (Fed. Cir. 2007)
＊１３　Warner-Lambert Co. v. Teva Pharms. USA, Inc., 418 F.3d 1326, 1348 (Fed. Cir. 2005).
＊１４　Paragon Podiatry Lab, Inc. v. KLM Labs. Inc., 984 F.2d 1182 (Fed. Cir. 1993)
＊１５　Therasense, Inc. v. Becton., Docket No. 2008-1511 (Fed. Cir. 2010)
＊１６　en banc:大法廷(オンバンク)。事件の重要性に鑑み、裁判官全員によるヒアリングが行われる。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

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