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執筆者：弁理士 河野登夫、弁理士 河野英仁
図１(a)侵害
特許 侵害のパターン（他社装置）
構成要件A,B,C → 構成要件A,B,C
構成要件A,B,C,D
構成要件A,B,C,D,E
図１(b)非侵害
特許 非侵害のパターン（他社装置）
構成要件A,B,C → 構成要件A
構成要件A,B
構成要件B,C
構成要件A,B,D,E
図１(a)に侵害となるパターンをまとめた。他社装置が構成要件A,B,Cを全て備える場合はもちろん、さらに構成要件Dを備える場合も、構成要件A,B,Cを備える以上特許権侵害となる。
図１(b)は非侵害となるパターンだ。構成要件A,B,Cの少なくとも一つでも欠落する場合は原則として特許権侵害とはならない。すなわち、構成要件の数が少ない方が権利範囲は広くなる。このようなルールを念頭に自分の特許、または他社の特許を分析すればよいだろう。（第２４回につづく）
