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外国出願 の専門家が生活やビジネスに役立つコラムを発信

外国出願 に関する コラム 一覧

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[アメリカ特許制度の改正] Prior Use Defenseの対象の拡大

アメリカでは以前からビジネス方法特許に関してはPrior Use Defence、いわゆる先使用権が認められていましたが、今回の改正でプロセス・機械・生産物・組成物に係る特許にも先使用権が認められるようになりました。より詳しくはアペリオ国際特許事務所のコラムをご参照下さい。(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/22 12:42

[アメリカ特許制度の改正] Derivation手続

今回の改正では、先願主義の採用に伴い、従来のInterference手続が廃止され、新たにDerivationという手続が設けられました。 このDerivation手続は、2つの出願のクレームが同一である場合に後願の出願人(特許権者)が申し立てるもので、先願の発明者が後願の発明者から発明を知得し、先願の発明者の承諾なしに出願したことを理由に先願の拒絶・取消を求めるものです。より詳しくはアペリオ国...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/15 15:16

[アメリカ特許制度の改正] グレースピリオドに関する改正

今回の改正では、先願主義への移行とともにグレースピリオドについても改正が行われ、グレースピリオドは有効出願日前1年とされました。具体的には、新規性(§102(a)(1))については、有効出願日前1年以内に公開された事項であって、以下のいずれかに該当する場合は先行技術とはなりません。 (1) 公開が発明者によりなされた場合 (2) 公開が発明者から直接的又は間接的に内容を知得した者によりなされた場...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/11 13:48

[アメリカ特許制度の改正] 先願主義への移行

今回の改正で最も注目されているのはやはり先願主義への移行でしょう。以下に概要を説明します。 今回の改正では、有効出願日(effective filing date)を基準として新規性・進歩性が判断されることになりました。 この有効出願日とは、(1)出願日の利益を享受できる最先の日(優先日・仮出願や親出願の出願日)、そのような日がなければ(2)実際の出願日のことをいいます(§100(i)(1))。...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/10 21:52

[アメリカ特許制度の改正] 弁護士の助言(鑑定書)の取り扱い

今回の改正では、弁護士の助言(鑑定書)の取り扱いが侵害事件の被告に有利な方向に改正されました。 すなわち、(1)鑑定書を入手しなかったことや(2)鑑定書を裁判所に提示しなかったことを、(a)故意侵害(willful infringement)の認定や、(b)侵害教唆(inducement of infringement)の意思の認定に使用できないと規定されました(§298)。より詳しくはアペ...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/04 22:57

[アメリカ特許制度の改正] Supplemental Examination

今回の改正では、情報開示義務違反等のinequitable conductにより特許がunenforceableとされることを防止する制度としてSupplemental Examinationが設けられました。 この制度は、特許権者が特許に関連していると思われる情報(文献)を考慮又は再考慮してもらう、あるいは訂正してもらうものです。より詳しくはアペリオ国際特許事務所のコラムをご参照下さい。(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/03 23:33

[アメリカ特許制度の改正] Inter Partes Review

今回の改正では、Post-Grant Review制度に加えて、Inter Partes Review制度が設けられました。これは現在のInter Partes Reexaminationに取って代わるものです。 このInter Partes Review制度は、特許発行から9ヶ月経過後(Post-Grant Reviewが申し立てられた場合はその手続の完了後)に特許権者以外の者が特許の取消を求...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/02 17:50

[アメリカ特許制度の改正] Post-Grant Review

今回の改正で新設された制度の1つにPost-Grant Review(PGR)制度があります。 このPost-Grant Review制度は、特許発行から9ヶ月以内に特許権者以外の者が特許の取消を求めることができる制度です(§321-§329)。より詳しくはアペリオ国際特許事務所のコラムをご参照下さい。(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/01 22:29

[アメリカ特許制度の改正] 権利化前の刊行物提出制度

これまでも第三者による情報提供制度はありましたが(Protest制度、公開後の情報提供制度、権利付与後の情報提供制度など)、今回の改正により新た に権利付与前の刊行物提出制度 (Preissuance Submissions)が設けられました(§122(e))。より詳しくはアペリオ国際特許事務所のコラムをご参照下さい。(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/01 10:54

[アメリカ特許制度の改正] 出願人・宣誓書に関する要件の緩和

これまで米国における出願人は基本的に発明者でなければなりませんでしたが、今回の改正により、権利の譲受人が出願できるようになりました(§118)。 また、宣誓書(oath又はdeclaration)についての要件も見直されています(§115)。より詳しくはアペリオ国際特許事務所のコラムをご参照下さい。(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/11/01 10:09

[アメリカ特許制度の改正] Prioritized Examination

以前からアメリカには日本と同様に早期審査制度(petition to make special)がありますが、これを利用するためには陳述書の提出や先行技術調査を行う必要がありました。 今回の改正では、所定の手数料($4,800、small entityはその半額)を支払うだけで審査期間を短縮してくれるprioritized examination制度が設けられました。より詳しくはアペリオ国際特許...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/10/24 14:59

[アメリカ特許制度の改正]micro entityに対する料金割引制度

これまでsmall entityに対しては通常料金の半額になる制度がありましたが、今回の改正では通常料金から75%の割引が受けられるmicro entity制度が新たに設けられました。micro entityとして認められる要件は、 (1) small entityに該当すること (2) 発明者になっている出願が過去4件を超えていないこと (3) 年間の総収入が全国の平均収入の3倍を超えていないこ...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/10/21 22:39

[アメリカ特許制度の改正] 特許表示に関する改正

特許表示に関しては以下の2点について改正が行われました。1.虚偽特許表示に対する訴訟の制限 - §292(a)の虚偽特許表示に基づく訴訟を国のみに認めるようにした。2.特許表示要件の緩和 - インターネット上に特許製品と特許番号の情報を掲示するVirtual Markingを認めるようにした。より詳しくはアペリオ国際特許事務所のコラムをご参照下さい。(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/10/19 13:53

[アメリカ特許制度の改正] ベストモード違反の抗弁の排除

明細書には発明者が知っている最良の実施形態(ベストモード)を開示しなければなりませんが、これまでベストモード違反により特許が無効(invalid)や権利行使不可(unenforceable)とされることがありました。 今回の改正では、訴訟経済や訴訟の予測可能性を考慮して、特許を取消(cancel)、無効(invalid)や権利行使不可(unenforceable)とする根拠からベストモード違反が...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/10/18 14:40

[アメリカ特許制度の改正] 複数の被告に対する訴訟の制限

これから数回にわたって先日署名された米国特許法の改正のポイントについて解説していきたいと思います。まずは、複数の被告に対する訴訟の制限についてです。近年、複数の企業に対して特許権侵害訴訟を提起し損害賠償金などを獲得しようとする者(パテントトロール)が問題視されていますが、今回の改正では、このようなパテントトロールによる訴訟を抑制すべく、「同一の特許を侵害している」ことのみをもって複数の被告を1つの...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2011/10/13 22:13

中国特許・実用新案調査、訴訟セミナーのご案内

中国特許・実用新案調査と中国特許権侵害訴訟の全て ~知財部員・研究開発者自身でできる中国特許・実用新案調査と激増する中国特許訴訟への対処ノウハウ~   対 象  知的財産権部門、研究開発管理部門他のスタッフ、マネジャーの方々 開催日時 2011年3月29日(火)13:00-17:00 会 場  日本出版クラブ会館(東京:飯田橋) 講師  弁理士 河野 英仁   お申し込み  htt...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2011/02/22 15:15

中国特許セミナーのご案内

セミナーのご案内 知的財産権講座 「中国特許訴訟実務講座」 ~中国における補正の実務、権利行使及び技術的範囲の解釈について~ ◇本講座では、権利化実務では、最も重要な創造性(進歩性)及び補正について実例に基づき説明し、訴訟実務では、民事訴訟の基礎、模倣品侵害事件を想定した権利行使プロセス、中国企業から権利行使を受けた場合の防御方法について解説し、権利範囲解釈では、司法解釈及び具体的な判例を紹...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2011/02/16 13:31

兵庫パテントセミナー 外国でのソフトウェア特許取得上の注意点

セミナーのご案内 兵庫パテントセミナー 外国でのソフトウェア特許取得上の注意点  ~米国、欧州、中国、韓国及びインドを中心に~  会場: 兵庫県学校厚生会館 講師 : 河野 英仁(弁理士) 日時 : 2011年2月26日(土) 午後1時30分~4時 内容 : ソフトウェア特許を諸外国へ出願・権利化する際、国毎に法定主題に対する概念・審査基準が相違するため、事前に各国における注意事項...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/12/24 14:00

セミナー中国:特許調査と特許訴訟戦略

セミナーのご案内 中国:特許調査と特許訴訟戦略 ~中国特許リスクに備える中国特許調査ノウハウから特許訴訟対策まで~   「損害賠償として6億5千万円支払え」日本企業が中国企業に敗訴した事件である。中国政府による特許強化政策により特許保護水準は格段に向上し、外国企業が巻き込まれる特許訴訟が急増している。巨大なマーケットである中国に進出する日本企業が市場優位性を保つためには、中国特有の特許・司...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/12/16 14:00

米国特許法が改正されました

9月16日にオバマ大統領が米国改正特許法(Leahy-Smith America Invents Act)に署名を行い、長年にわたって議論されてきた米国特許法が遂に改正されました。最大の改正点は"first to invent"システムから"first inventor to file"システムへの移行ですが、その他にも多くの重要な改正が含まれています。主な改正点についてはこちらをご覧下さい。今回...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/22 14:42

アジア地域(中国・東南アジア)特許等出願セミナー

セミナーのご案内 アジア地域特許等出願セミナー ~海外展開を成功させるための出願戦略と基礎知識を開催します~ 日 時    2010年11月26日(金曜日) 13時30分~17時00分 (受付13時より) 会 場    (財)東京都中小企業振興公社 3階 第1会議室 (千代田区神田佐久間町1-9) 主催       東京都及び(財)東京都中小企業振興公社(東京都知的財産総合センター) 講...(続きを読む

河野 英仁
河野 英仁
(弁理士)
公開日時:2010/10/21 10:00

[アメリカ特許制度] (5) 出願書類

アメリカへの特許出願書類を作成するときに注意すべき点について説明します。   用紙 (37CFR1.52(a)(1)(2)) ・A4またはレターサイズ ・用紙の余白は上2.0cm以上、左2.5cm以上、右2.0cm以上、下2.0cm以上とする。 ・行間は1.5行または2行とする。 ・nonscript typeのフォント(Arial, Times Roman, Courierなど)を使用する...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/15 14:38

[アメリカ特許制度] (13) 維持年金

支払期限と料金 以下のページを参照 http://www.aperio-ip.com/c/patentsystems/us/13   支払可能な時期 ・上記支払期間経過後6ヶ月間       surcharge(37CFR1.20(h))の支払により追納できる。 ・上記支払期間+6ヶ月経過後   ・上記支払期間+6ヶ月~24ヶ月(支払期限から30ヶ月以内)であり、未納がunintent...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/15 14:38

[アメリカ特許制度] (12) 再発行出願

再発行出願(Reissue Application)は、特許に含まれるerrorの訂正を特許の発行後に求めるための出願である (35USC251, MPEP1411)。 要件 出願できる者 発明者のみが出願できる(発明者が死亡している場合やサインを拒否した場合は除く (37CFR1.42、37CFR1.43、37CFR1.47)) 出願可能時期 特許発行後いつでも可能(ただし、クレー...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/13 21:07

[アメリカ特許制度] (11) 特許期間

特許期間 出願日から20年で満了(1995年6月8日以降の出願)(35USC154(a)(2)) (1995年6月8日以前の出願は特許発行日から17年) ・国際出願:国際出願日 ・仮出願:仮出願日ではなく、通常の出願日 ・パリ優先権主張出願:優先日ではなく、実際の出願日(35USC154(a)(3)) ・継続出願・分割出願:親の出願日(親の出願日が1995年6月8日以前であっても親の出願日から...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/08 14:44

[アメリカ特許制度] (10) 情報開示陳述書(IDS)

Information Disclosure Statement (IDS)の制度の下、米国特許出願の手続に関わる者は出願係属中は自己の知っている先行技術文献をUSPTOに提出する必要がある。(37CFR1.56,37CFR1.97,37CFR1.98,MPEP609)   対象となる出願 ・通常の出願に加え、reissue出願、植物特許出願、意匠出願、reexaminationもIDS提出...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/07 11:45

[アメリカ特許制度] (9) 継続審査請求(RCE)

継続審査請求(Request for continued examination (RCE))は、審査手続の終了後に審査を継続するために行う手続である(37CFR1.114)。   対象とならない出願   ・仮出願   ・Design Patent   ・Reexamination   ・1995年6月8日より前の出願   手続可能時期   ・審査手続がcloseした後、下記のうち最も...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/06 11:52

[アメリカ特許制度] (8) 一部継続出願(CIP)

一部継続出願(continuation-in-part application (CIP))は、親出願の内容に新規事項を追加した出願である (35USC120)。   要件   ・親出願の特許発行、放棄、手続終了の前に出願すること   ・親出願の発明者の少なくとも1人を共通の発明者として出願すること   ・親出願に関する参照があること   ・親出願が明細書の記載要件を満たしていること (37...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/10/05 10:23

[アメリカ特許制度] (7) 出願手数料

計算方法 米国出願の出願手数料は以下の合計金額になる。[2009年7月1日時点]  ・Basic Filing Fee : $330  ・Search Fee : $ 540  ・Examination Fee : $220  ・(独立クレーム数 - 3) × $220  ・(クレーム数 - 20) × $52  ・多数従属クレーム(multiple dependent claim)がある場合...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/09/24 16:30

[アメリカ特許制度] (6) 明細書の記載

ここでは出願書類の中核となる明細書(specification)の記載について説明します。   記載の順序 明細書(specification)は以下の順序で記載することが好ましい。(37CFR1.77, MPEP608.01(a))    1. Title of the Invention       発明の名称    2. Cross-Reference to Related App...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/07/04 00:57

各国の特許庁ウェブサイト

三極特許庁 ・世界知的所有権機関  The World Intellectual Property Organization (WIPO)  http://www.wipo.int/ ・日本  Japan Patent Office  http://www.jpo.go.jp/indexj.htm ・米国  United States Patent And Trademark Office ...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/07/03 22:12

[アメリカ特許制度] (4) PCTバイパス出願

アメリカに特有なPCTバイパス出願について説明します。   PCTバイパス出願 (35USC:111(a), 37CFR1:53) ・35USC120では、継続出願等により出願の遡及効が得られる基礎出願として、先になされた米国特許出願とPCT11条に基づいて米国を指定国としたPCT出願を挙げ ていることから、米国を指定国としたPCT出願に基づいてContinuation/CIP出願が可能であ...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/07/03 22:06

[アメリカ特許制度] (3) 出願形態

日本からアメリカに出願する場合、主に以下に述べる7つの形態が考えられます。   パリルート出願 ・通常は日本出願を基礎として優先期間(1年)以内に英文明細書を作成して出願する。 日本語によるパリルート出願 ・USPTOは日本語による出願も認めている。(37CFR1.52(d)) ・出願後にNotice to File Missing Partsが出され(出願後約3月)、その発送日か...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/07/03 22:04

[アメリカ特許制度] (2) USPTO

今回は米国の特許商標庁(USPTO: United States Patent and Trademark Office)について説明します。   USPTOの構成 ・USPTOの(特許)審査官は約6200人(2009年度) ・審査部門は9つのTechnology Centerに分かれている   出願の受理~審査官に届くまで ・出願が受理されると、その出願はOffice of Ini...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/07/03 22:03

[アメリカ特許制度] (1) アメリカ特許制度の特徴

これからアメリカの特許制度について何回かに分けて説明していきたいと思います。   まず、アメリカ特許制度の特徴からはじめたいと思います。 アメリカ特許制度には他国の特許制度にはない特徴的な制度がたくさんありますが、その中でも主なものを挙げると以下のようになります。   先発明主義 -First to Invent System- ・米国は他の国と異なり先発明主義を採用している。 ・最...(続きを読む

森 友宏
森 友宏
(弁理士)
公開日時:2010/07/03 22:02

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